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什么是ICP光譜儀​的去溶干擾?
點擊次數:0 發布時間:2020-02-01
 

  什么是ICP光譜儀的去溶干擾?我們今天就來一起簡單的了解一下。

  1. 去溶干擾就是去除溶劑的干擾,主要是扣除背景.

  2. 可以提高靈敏度,降低檢出限.

  3. 去溶過程主要出現于分析液體樣品的原子吸收和ICP發射光譜,它是指將霧化后的液(濕)氣溶膠中溶劑揮發變為干氣溶膠的過程。對于ICP來說,因為加熱條件比較好,只要使氣溶膠在分析通道的停留時間足夠長,即使不用去溶裝置也可使分析物完全揮發,而基本上沒有什么去溶損失,所以ICP的去溶干擾并不十分明顯,更不是很重要。


聯系人:李先生
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